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Prozessoptimierung durch Stratos Multi E471 mit EtherNet/IP
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Prozessoptimierung durch Stratos Multi E471 mit EtherNet/IP
Der Stratos Multi E471 aus der bewährten 4-Leiter Stratos Transmitter-Produktlinie wurde jetzt mit einem EtherNet/IP Kommunikationsprotokoll ausgestattet. Dadurch kann er leicht in Industrial Ethernet-Netzwerke integriert werden und im Prozessleitsystem (PLS) projektiert werden.
Alle Produktionsprozesse erfordern eine kontinuierliche Überwachung und Regelung durch ein Prozessleitsystem. Industrie 4.0, also die Vernetzung von Sensorik und Steuerung, ist in der Prozessindustrie wie in der Automatisierungstechnik von sehr hoher Bedeutung.
Gerade bei Prozessen mit großem Durchsatz, bei kritischen Parametern für Anlagensicherheit und Qualität müssen relevante Messwerte in Echtzeit ermittelt und an die Leitstelle weitergegeben werden, damit die Steuerung gegebenenfalls schnell reagieren kann.
Der Stratos Multi E471 EtherNet/IP mit Multiparameter-Funktionalität ist flexibel und weltweit mit den Prozessleitsystemen aller relevanten Anbieter wie z.B. Honeywell oder Rockwell/Allen Bradley einsetzbar. Der Transmitter überträgt nicht nur Messwerte, wie z. B. pH-Wert, Sauerstoffkonzentration oder die Leitfähigkeit, sondern auch Kalibrierwerte mit Nullpunkt, Steilheit, sowie die Diagnosedaten direkt an das Prozessleitsystem.
Die Diagnosedaten umfassen z.B. Sensoface, Verschleiß, Reststandzeit, Betriebszeit, Kalibriertimer, SIP- und CIP-Zähler. Hierbei werden Standard-Diagnosedaten gemäß den Vorgaben der ODVA® (Open DeviceNet Vendor Association) ebenso wie die erweiterten Diagnosedaten von Sensor und Transmitter (NAMUR NE 107) vom Transmitter an das PLS übergeben.
CIP/SIP- und Autoklavierzähler, Sensornetzdiagramm und verbleibende Sensor-Lebensdauer können vom Prozessmanagement für eine vorausschauende Wartung mit optimierten Intervallen verwendet werden.
Durch die lückenlose Datenübertragung der Geräte- und Sensordaten in Echtzeit an die Prozesssteuerung trägt der Stratos Multi E471 erheblich zur Optimierung und zur Effizienz der Anlage bei.
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